WET PROCESS EQUIPMENT

湿法设备

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科芯微

湿法工艺设备技术支持

湿法设备


KOH Etching

硅片的KOH蚀刻取决于溶液的浓度和温度。科芯微生产手动和自动湿法工作台,可以精确控制这两个参数。

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Pre-Diffusion Clean

扩散前清洗过程去除有机物、二氧化硅层、颗粒和金属,保护再生氧化物。

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超声波清洗机

超声波清洗机是一种独立的湿式工作台,旨在使用各种频率的超声波对半导体零件进行精确清洗。超声波清洗机支持使用易燃溶剂和水性化学品进行清洁。工艺功能包括加热、溢流再循环、多种化学物质、DIW 冲洗和干燥。

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兆声波清洗机

兆声波清洗机是一种独立的湿式工作台,旨在使用兆声波对半导体零件进行精确清洗。兆声波清洗机支持使用易燃溶剂和水性化学品进行清洁。工艺功能包括加热、溢流再循环、多种化学物质、DIW 冲洗和干燥。

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RCA清洗机

BOE刻蚀机