槽体模块
Tank Module
干燥设备
随着晶片表面洁净要求的不断提高,清洗工艺的焦点已逐步由清洗液、兆声波等转移到晶片干燥上。干燥作为湿法清洗的最后一个步骤,最终决定了晶片的表面质量,是清洗工艺的核心所在。
Marangoni 干燥机是一种基于 Marangoni 效应的新型干燥技术
纯水+IPA+热氮干燥
SRD甩干机是半导体制造过程中不可或缺的重要设备。
适用于对颗粒吸附较为敏感的高端晶圆制造工艺
干燥设备
随着晶片表面洁净要求的不断提高,清洗工艺的焦点已逐步由清洗液、兆声波等转移到晶片干燥上。干燥作为湿法清洗的最后一个步骤,最终决定了晶片的表面质量,是清洗工艺的核心所在。
Marangoni 干燥机是一种基于 Marangoni 效应的新型干燥技术
纯水+IPA+热氮干燥
SRD甩干机是半导体制造过程中不可或缺的重要设备。
适用于对颗粒吸附较为敏感的高端晶圆制造工艺