SRD立式甩干机

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SRD立式甩干机

SRD甩干机是半导体制造过程中不可或缺的重要设备。

工艺步骤
应用领域
介绍

- 商品名称: SRD立式甩干机
SRD甩干机是半导体制造过程中不可或缺的重要设备。

主要功能：用于去除晶圆及器件制程中的化学溶液和水分
腔体数量：单腔/双腔
尺寸(参考)：L×D×H=面宽480mm×纵深820mm×高度1750mm
清洗件规格：4寸/5寸/6寸/8寸等尺寸晶圆或器件
工作转速：300-2400r/min
操作流程：人工上料→DIW喷洗加转子旋转→HOT N2吹干加转子旋转→加速旋干含舱体加热保温→完成设备预设之制程结束
外观材质：进口PPW 10t板材
机台正压保护：采N2正压保护
工艺参数：颗粒度 >0.2um的颗粒<30颗
径向震动位移 <100um
芯片表面静电电压 spv<200
芯片表面金属离子浓度 <10ppm
- 半导体制造：在半导体芯片生产过程中，晶圆需要经过多道清洗工序，SRD 立式甩干机用于去除晶圆表面的水分和化学溶剂，为后续的光刻、蚀刻、沉积等工序创造洁净的工作环境，确保晶圆的质量和性能，提高芯片的良品率
- 光伏产业：用于太阳能电池片的生产过程中，对硅片等材料进行清洗后的甩干处理，保证电池片表面的洁净度和干燥度，提高电池的光电转换效率
- 电子元件制造：如 LCD、OLED 等电子元件的生产中，对玻璃基板、芯片等物料进行脱水干燥，确保产品的质量和性能稳定
- 超洁净高效腔体设计
1)316不锈钢电解抛光
2)无刷直流电机与编码器精准控制转速和定位
3)非接触式超纯N2加热器
- 电控单元及软件系统
1)控制器操作界面
7”记忆人机+PLC可程序自动化控制器(人机TouchScreen)
2)软件功能
编辑/储存:制程/维修/警示/编辑/配方/,皆可从操作荧幕上修改
3)储存能力
记忆模块:参数记忆,配方设定

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