槽体模块

槽体模块

Tank Module

Tank Module

清洗设备

湿法设备通常包括反应器、分离器、冷却器、加热器和控制系统等部件。其中最常见的湿法设备包括蒸馏塔、萃取塔、沉淀槽、搅拌桶等。

清洗设备

腐蚀设备

干燥设备

CDS供液系统

有机清洗机

有机清洗机

湿法制程有机溶剂清洗，触控人机或PC界面搭配PLC的软件控制

最终清洗机

最终清洗机

清洗槽用于6/8吋兼容，集成电路制造工艺的最终清洗

EKC Clean

EKC Clean

用于蚀刻后去除残留物和杂质，尤其是去除铜蚀刻后留下的杂质

RCA清洗机

RCA清洗机

常用于半导体制造工艺中的清洗方法

卧式石英管舟清洗机

卧式石英管舟清洗机

石英管/ 舟、石英板、点火炮、基座等零部件浸泡式清洗

Pre-Diffusion Clean

Pre-Diffusion Clean

去除晶圆上的化学残留物和颗粒，保护氧化物再生

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