EKC Clean
EKC Clean
用于蚀刻后去除残留物和杂质，尤其是去除铜蚀刻后留下的杂质
- 工艺步骤
- 应用领域
- 介绍
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- 商品名称: EKC Clean
用于蚀刻后去除残留物和杂质，尤其是去除铜蚀刻后留下的杂质
- STEP 1：EKC槽
- STEP 2：IPA槽
- STEP 3：QDR槽
- STEP 4：Dryer
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用于晶圆制造中薄膜沉积前后、干法刻蚀前、离子注入后、研磨前后、退火前后、抛光前后清洗以及化学湿法刻蚀清洗等领域
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有机物湿法剥离(EKC Clean)
可以高效地清洗先制作的通孔、后制作的通孔和腐蚀停止层的刻蚀残余物，并去除铜氧化物。
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