湿法设备

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产品 新闻

有机清洗机


湿法制程有机溶剂清洗,触控人机或PC界面搭配PLC的软件控制

最终清洗机


清洗槽用于6/8吋兼容,集成电路制造工艺的最终清洗

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EKC Clean


用于蚀刻后去除残留物和杂质,尤其是去除铜蚀刻后留下的杂质

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RCA清洗机


常用于半导体制造工艺中的清洗方法

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