Pre-Diffusion Clean

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Pre-Diffusion Clean

去除晶圆上的化学残留物和颗粒，保护氧化物再生
  • 工艺步骤
  • 应用领域
  • 介绍
    • 商品名称: Pre-Diffusion Clean

    去除晶圆上的化学残留物和颗粒，保护氧化物再生

    • STEP 1：HF (50:1) – 恒温槽
    • STEP 2：Rinse – QDR槽
    • STEP 3：SC1 – 加热过滤槽
    • STEP 4：QDR槽
    • STEP 5：SC2 – 加热过滤槽
    • STEP 6： QDR槽 (可选兆声清洗槽)
    • STEP 7：Dry – 马兰戈尼干燥

  • 用于晶圆制造中薄膜沉积前后、干法刻蚀前、离子注入后、研磨前后、退火前后、抛光前后清洗以及化学湿法刻蚀清洗等领域

  • 半导体制造过程中会进行多次预扩散清洗，每次都要尽可能彻底地去除晶圆上的化学残留物和颗粒。

    科芯微扩散前清洁工艺可以去除有机物、二氧化硅层、颗粒和金属，以及保护性氧化物再生。

    • 手动刻蚀设备
    • 半自动刻蚀设备
    • 全自动刻蚀设备

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卧式石英管舟清洗机

无

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分类：

清洗设备

关键词：

湿法设备

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