SC2清洗(Standard clean2)
分类：
工艺技术
作者：
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发布时间：
2024-07-31
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SC2清洗(Standard clean2)
目的：用于去除硅片表面的钠、铁、镁、钙等金属沾污。在室温下SC2就能除去Fe和Zn。
SC2 成分组成：HCL: H2O2: H2O=1:1:50 30~50℃
去除金属离子的原理：盐酸中氯离子与残留金属离子发生络合反应形成易溶于水溶液的络合物，可从硅的底层去除金属污染物。
SC2清洗发展趋势：根据报道，经过大量实验发现HF+H2O2液清洗去除金属的能力比较强，在一些IC芯片制造厂，常使用HF+H2O2来代替SC2清洗。
SC2,RCA清洗,2号液
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